荷兰马上宣布！禁售DUV光刻机，中方回应：别无选择，将自主制造
这事儿说起真让人烦心，荷兰那边在2023年3月8日就正式宣布，要对DUV光刻机的出口到中国加强限制。DUV，大家都知道，是深紫外光刻机的简称，主要是用来制造25纳米以上的芯片工艺，本来中国的厂子靠这个还撑起了不少生产线。
荷兰政府的外贸大臣施赖纳马赫尔给议会写了一封信，说这些新规会在夏天开始实施，主要针对那些最先进的DUV设备，出口到中国之前得先拿许可证才行。
荷兰芯片设备巨头ASML当天回应，表示部分DUV系统的出口可能会受到影响，特别是会对一些中国客户的发货产生影响。
这事可不是突然冒出来的，早在2019年，美国就开始推EUV光刻机的禁售，那玩意儿更先进，能做10纳米以下的芯片，当时荷兰就顶不住压力，答应不把它卖给中国。
到了2022年10月，美国那边又升级了一把，把DUV光刻机也列入出口限制名单。荷兰方面起初还挺倔的，11月时外贸大臣接受媒体采访说，不会全盘照搬美国的招数，ASML公司照样继续向中国出售DUV，销量还比以前更上一层。
到了一月，ASML的老板富凯直言不讳地批评美国的做法，拜登赶忙在白宫见荷兰首相吕特，劝他别太硬撑。吕特还没马上表示同意，但美国这边没打算放手，到了1月27日，美日荷三国就达成一致，关于先进DUV的出口都得经过许可。
荷兰折腾了几个月，一边惦记着和美国的盟友关系，一边担心ASML会失去市场份额，毕竟中国是他们的大客户，2022年对华收入占了不少。到最后，荷兰还是让步了，3月8日的声明就是个开始。
到了6月30日，荷兰公布了细节规定，从9月1日开始，ASML的TWINSCAN NXT2000i之类的浸没式DUV光刻机要出口到中国，得先经过政府审批。到2024年1月，荷兰又直接收回了部分已经批准的出口许可证，导致ASML无法把NXT2050i和NXT2100i这些型号发给中国。
9月6日，荷兰又宣布扩大出口管控，从第二天起，所有浸没式DUV光刻机出口到欧盟以外的地区都要经过特别审批，包括1970i和1980i这些型号。这样一来，ASML的日子变难熬了，2024年对中国市场的销售一度大幅增加，因为中国企业趁禁令实施前囤了不少货，可一旦先进型号受限，影响立马显现。公司表示，对华业务下滑了10%到15%。
从2023年9月开始，荷兰就不再公布ASML对华销售的具体数据了，估摸着是怕惹出点事儿。到了2024年底，ASML在12月2日透露，新一轮管制的影响还会延续到2025年的展望里，整体销量还是会保持增长，可中国那块儿的订单可能会减一些。之后，2025年1月15日，荷兰又调整了出口措施，从4月1日起，相关限制变得更严了，对先进半导体设备的出口管控得死死的。
1月17日，荷兰把大部分ASML对华销售列入敏感货物披露范围，数据变得更难看清了。ASML在2024年12月就提过，2025年中国市场大概占20%左右，但到了10月16日，ASML的前景显示，美国的芯片出口管制让中国的销量受打击。2025年的总净销量预计会涨15%，毛利率在52%，不过，来自中国的营收会从2024年的高点逐渐回落。
管理层提到，到了2026年，中国的收入会缩水不少，比2024和2025年都要低一些，短期来看，ASML的盈利表现还不错，但长远来看，AI在中国的发展放缓可能会拖累他们的表现。2024年第二季度，ASML的净销售额达到了62亿欧元，其中中国占了49%，也就是23.3亿欧元。虽然荷兰限制了EUV的出口，但他们的DUV设备还是卖出了不少。
中国市场在2024年大约卖了116亿欧元，占总销售的41%，不过到2025年，这个比例可能会降到25%以上。ASML表示，2024年中国的DUV热潮已经告一段落，市场回归了正常水平。
中国方面当然对荷兰的决定不太开心。商务部直言，他们对荷兰加大ASML设备出口限制感到不满，觉得这搞砸了正常的贸易秩序。到2024年9月8日，商务部也发表声明，觉得荷兰这么做只会让供应链出现更多麻烦。中国半导体行业协会也跟着表达了不满，认为这会影响到全球的合作局面。
驻荷兰大使馆直接 Point 出来，觉得荷兰这么搞，等于破坏了国际贸易的规矩，还会影响到ASML的研发力量。表面上客客气气，但其实中国早就开始动作了。2023年一发布禁令，他们就开始加快自主研发脚步。上海微电子设备公司，早在2023年前就已经推出了90纳米的光刻机，用多重曝光技术还能达到22纳米的水平。
到2023年12月，有些消息传出来，说他们已经弄出了28纳米的DUV，不过很快就把相关信息删掉了。到了2024年，上海微电子宣布年底能交出第一台28纳米的光刻机，型号叫SSA800-10W。
到2025年5月，数据显示他们开始交付28纳米浸没式DUV设备，这帮中国减少了对进口的依赖，每年新建超过100条芯片生产线，芯片进口额也从接近石油的水平下降了不少。中国科学院在2025年报告了EUV测试的最新进展，意味着在高端芯片制造方面取得了突破。
2月中国投入370亿欧元打造本土EUV系统，直逼ASML的地位。上海微电子的衍生公司AMIES也在2月成立，专注于光刻设备，目标是实现65纳米和28纳米的生产能力。到2026年，中国芯片厂产量预计会翻三番，主要依靠之前购入的ASML设备，不过国产工具的开发也会慢慢跟上。
9月，中国第一台商用电子束光刻机正式亮相，宣称实现了突破，但专家提醒还得看实际效果。9月18日，中国自行研发的深紫外（DUV）设备进行了测试，华虹晶圆制造（SMIC）等企业用DUV技术将设备推到了极限，因为极紫外（EUV）技术目前仍受到限制。
10月1日，有视频称中国自主研发的EUV设备已经问世，直接关闭了荷兰ASML的市场通道，不过这个消息还得等官方确认才算数。到了10月3日，有传闻说中国的EUV机引发了股市的热烈反应，不过很可能只是市场上的炒作行为罢了。
整体来看，目前中国主要还是用DUV设备，毕竟EUV技术被限制了，迫使本土扫描仪行业不得不加快发展。根据CSET的报告预计，到2025年7月，上海微电子的设备还主要停留在DUV阶段，EUV技术还比较遥远。再帮你补充一下，3月份的Semicon China会议上透露，2024年4月中国的第一台EUV经过优化升级还在研发中，离量产还不算近。
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